PSK
Psk
9년
주장비
교육
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 식각장비
2006-02-08
70,000,000원
고정형
시간별
0원
- Implant 공정 후 PR Etch
- Parameter 설정 - O2 Gas량, N2 Gas량, 온도 Mw Power
- Monitor -12.1"
- Generator - Frequecy : 2.45GHz/ - Max Power : 1500W
- Gas Flow - O2 : 3000sccm/ -N2 : 400sccm
- Recipe No. 3
- 1 Chamber
- 1 Cool Plate
- 4", 6" Substrate
- Implant 공정 후 PR Etch
- Parameter 설정 - O2 Gas량, N2 Gas량, 온도 Mw Power
- Monitor -12.1"
- Generator - Frequecy : 2.45GHz/ - Max Power : 1500W
- Gas Flow - O2 : 3000sccm/ -N2 : 400sccm
- Recipe No. 3
- 1 Chamber
- 1 Cool Plate
- 4", 6" Substrate