PLASMART
플라즈마장치
주장비
생산
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2005-09-28
59,800,000원
고정형
기타
원
RIE 장비는 Dri etch 장비로 ion을 가속시켜 박막의 노출부위의 물질을 떼어냄으로써 미세회로를 형성하는 과정에 이용된다. 이는 현상공정(Photo 공정)을 통해 형성된 PR pattern과 동일한 metal(혹은 기타 deposition된 물질) pattern을 만드는 공정으로 CCP-RIE는 대면적 시료의 균일한 식각이 가능하므로 LCD 공정에서 주로 이용된다.