플라즈마트
miniplasma
5년
주장비
기타
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2005-12-20
54,800,000원
고정형
원
플라즈마 중합 화학기상 장치(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)를 변형하여 만든 장비로 다양한 유기물을 고체 표면 및 원형 비드 표면 위에 나노두께의 형태로 고르게 증착할 수 있는 장비이다. 장비 구성으로는 플라즈마 발생이 가능한 기체의 유량을 제어하고 증착하려는 물질을 기화, 반응 챔버까지 이송시키는 가스 콘트롤러 영역, 증착하려는 물질을 플라즈마 중합반응을 이용하여 고체 표면에 증착시키는 플라즈마 중합 챔버, 챔버 및 가스연결라인의 진공을 유지시키는 진공펌프영역으로 나눌 수 있다. 상기 장비는 고체 표면 위에 매우 고르고 단단한 결합력을 가진 박막을 나노 두께로 증착시킬 수 있는 장비로 기판의 종류를 가리지 않고 박막형성이 가능하다는 장점이 있다. 현재 바이오 분야로의 적용이 가능한 생체적합성 박막을 개발 중에 있다.