성진세미텍
SJF-1000LP-T4
10년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2005-12-22
313,280,000원
직접사용
고정형
시간별
130,533원
저압에서 SiN SiO2 를 증착하는 장비로 4개의 챔버로 구성되어 있고, 열산화 챔버, 실ㄹ콘산화물
증착챔버, 실리콘질소화물 증착챔버, 폴리실리콘 증착챔버로 구성되어있음.
챔버내 온도범위 : 400~1200℃
활용분야테이프 재봉기가공챔버 : 4개 프로세스챔버 - 열산화챔버 - 실리콘산화물 증착챔버 - 실리콘질소화물 증착챔버 - 폴리실리콘 증착챔버가공 기판수/(챔버/배치) : > 50Wafers적용가능기판 : 4" or 6" 기판챔버내 온도범위 : 400~1200℃ 3개의 가열구역, 균일 가열구역 : > 300mm (1℃ 이내에서)공정가스 : SiH4, DCS, NH3, O2, N2 진공시스템 : - 공정진공도 : < 500mTorr - 최대 진공도 : < 5× 10-3Torr