Unaxis
SLR-770I
9년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2005-07-22
433,625,120원
직접사용
고정형
시간별
180,677원
InP 웨이퍼 건식각 장비로 로드락 챔버, 메인챔버로 구성되어있고, 터보펌프가 있음
(BCl3, HBr같은 특수 가스가 있음)
) Dual range 60/600W RF generator (2) Auto Impedance matching unit Load Lock Chamber system
장비특징 : - 적용가능 기판크기 : 2인치 - 4인치 - 공정 가스 : BCl3, HBr, CH4, H2, He, Ar, N2, O2 - InP Anisotropic 식각 (1) Etch rate : 1.2 um/min 이상 (2) Sidewall angle : 85도 이상 (3) Selectivity : 10:1 (PR mask) 이상, 15:1(SiO2) 이상 - ICP Power (1) 2kW RF supply (2) Auto Impedance matching unit , Auto DC bias control - RIE Power (1) Dual range 60/600W RF generator (2) Auto Impedance matching unit - Load Lock Chamber system