SE tech
SE-PTWTR
9년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2005-05-27
142,000,000원
직접사용
고정형
시간별
59,167원
웨이퍼에 패턴을 형성하기 위한 PR을 도포하고 그 PR을 현상할 수 있는 장치
감광액(Photoresist) 도포, bake, 현상 등 일련의 공정을
한 시스템에 할 수 있는 장비
적용가능 기판크기 : 2, 3인치 Wafer Wafer Track 구성 - Spin coater : 1 unit - Developer : 1 unit - Robot : dual arm - Hot plate oven : 4 units - Chill plate unit : 2 unitsRobot Repeatability : ≤ ± 0.1mmHot Plate Oven (4 units, included HMDS bake unit) - 온도범위 : R.T.~ 200℃ max - 온도정확도 : ±0.3℃(@R.T.~120℃), ±1.0℃ (@120~200℃)Coat/Develop Unit - Spin 속도 : 6000 rpm - Spin 정확도 : ±1rpm (@ ≥ 2000rpm) - 가속범위 : 0~50,000rpm/sec - Dispense nozzle 수 : 2ea - Water centering accuracy : ±0.2mm공정능력 - Coating uniformity (in wafer) : range ≤40Å, 1.2㎛ thick PR - Develop uniformity : ≤ 5%, cross wafer range