Modular Process Technology Co.
RTP-800S
10년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2005-05-27
156,617,330원
직접사용
고정형
시간별
65,257원
고온을 이용하여 웨이퍼 표면 열처리장비로 퀄츠로 된 챔버가 있고, 온도를 급격히 올릴수 있는 할로겐램프
O2 N2 Ar을 정밀하게 컨트롤할 수있는 MFC 및 현재 온도를 볼수 있는 그래프로 구성되어있음
장비개요
적용가능 기판크기
- up to 8인치
- 4인치 Susceptor (2인치 recess)
분위기 가스 : N2, Ar, O2
Heat Source
- Halogen 램프
- Cross type (상부 28line, 하부 28line)
온도 범위
- up to 1250도 (오차 2도)
- Max. Heat up rate : 175도/sec
온도 control : Thermo couple & Pyrometer