SE Tech (한국)
SE-ptorw-02
10년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2005-04-29
42,000,000원
직접사용
고정형
시간별
17,500원
웨이퍼 표면의 오염물질을 유기 용액으로 제거하는장치로 아세톤,IPA, 메탄올의 화학약품을 이용하여
웨이퍼 표면의 이물질을 제거함. 장비 내부에는 핫플레이트 및 배쓰 두개가 비치되있음.
적용 웨이퍼 크기:조각~4인치(6인치이상 별도비이커사용가능)메인 프레임:서스 304, 1200(w)x900(D)x 2100(H) qdr bath:4인치, 투명 pvc파이널 린스 배스:~4인치, 투명 pvc, 비저항계(~20mohm)울트라소닉 배스:130khz핫플레이틔1200w, 300도픗마스터:1set,폐액구