SE Tech (한국)
주문제작
10년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2005-03-30
47,000,000원
직접사용
고정형
시간별
19,583원
웨이퍼 표면의 오염물질을 유기 용액으로 제거하는장치로, 아세톤, 이소프로필알콜, 메탄올의 케미칼을
핫플레이트에 보일링한후 웨이퍼 표면의 유기물을 제거하는 장치임. 3개의 배쓰로 구성되있음
classification:examples of applicationpre-cleaning:pre-diffusion cleaning pre-oxidation cleaning pre-cvd,metal,silicide cleaningpst-cleaning:pr strip solvent strip post-cmp cleaning post-cvd,metal cleaningetching:nitride strip oxide etching contact hole etchingcontrol panel-조광형선택(select)스위치-비상정지 switch(emr switch)-resistivity monitor-touch screenbath-clean plate-goose nech:particle 및 residue를 제거-폐액구:오염된 chemical을 회수하는 port-final bath:세정의 마지막 단계-qdr bath:quick dumped rinse공정-diw gun-ultra sonic bath:diw에 초음파(132khz)-hot plate-조절댐퍼용도:유기용액(acetone, methanol , ethanol)에 의한 wafer 세정용