SE tech
SE-Ptacw-01
10년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2005-03-30
38,000,000원
직접사용
고정형
시간별
15,833원
웨이퍼 표면의 오염물질을 산용액으로 제거하는 장치로 산케미컬(황산, 인산, 과산화수소, 암모니아)등을 이용하여 화학반응에 의한 웨이퍼 표면의 습식 세정을 수행함. 배쓰2개로 구성되있음
Classification Examples of Application Pre-Cleaning Pre-Diffusion CleaningPre-Oxidation CleaningPre-CVD, Metal, Silicide Cleaning Post-Cleaning PR StripSolvent StripPost-CMP Cleaning Post-CVD, Metal Cleaning Etching Nitride Strip Oxide EtchingContact Hole Etching -웨이퍼크기:2인치,4인치(사파이어, 인듐포스파이드 기판)-사용 chemical : HF, BOE6:1, BOE 30:1 NH4OH, HNO3, H3PO4, HCL, HBr, H2so4, H2o2-장비본체 본체:아이보리 PVC8T , 프레임:SUS 304 투명 QDR bathx2 , 투명 final rinse bathx2-DIW, n2 gun DIW gun : 2set with DI bypass N2 gun : 2set exhaust manometer spectific resistivity meter(18m옴)- 이중 드레인 구조 원액 폐액처리조(20리터 bottle) DI 폐수처리조- 이동형 hot plate:2set