SE tech
SE-PTDVS
10년
주장비
기타
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2005-03-18
32,900,000원
직접사용
고정형
시간별
13,708원
포토공정에서 PR을 현상현상하기위한 장치로 2개의 배쓰가 있고, 이부분을 컨트롤하는 컨트롤부가 있음.그리고,
케미컬의 흄을 제거하기 위한 흄후드가 있음. 매뉴얼 장비로, 사용방법이 간단함
적용 Wafer 크기 : 조각 ~ 4인치(6인치이상 별도 비이커 사용가능)Main Body : PVC, 1200X900X2100(H) Chemical Bath : SUS, 116X116X146(H) QDR Bath : SUS, 116X116X146(H), - QDR Drain (Auto 밸브, Drain 밸브), DIW Shower Final Rince Bath : 무정전 투명 PVC, DIW Over Flow Goose Neck : Plate Foot SwitchN2 Gun, DIW Gun; Manual Clean Plate : 6X500mL Beaker 폐액구Touch screen 제어 방식 적용 Wafer 크기 : 조각 ~ 4인치(6인치이상 별도 비이커 사용가능) Main Body : PVC, 1200X900X2100(H) Chemical Bath : SUS, 116X116X146(H) QDR Bath : SUS, 116X116X146(H), - QDR Drain (Auto 밸브, Drain 밸브), DIW Shower Final Rince Bath : 무정전 투명 PVC, DIW Over Flow Goose Neck : Plate Foot SwitchN2 Gun, DIW Gun; Manual Clean Plate : 6X500mL Beaker 폐액구Touch screen 제어 방식