한국vacumtech
KVE-C300160
10년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2005-06-27
148,000,000원
고정형
건별
130,000원
특징
1. Substrate Assembly : 6 이상의 Substrate -Rotation & revolution : RPM 0.1~20 -Throughput : 3개의 3 웨이퍼 사용
2. Thickness Sensor(두께 측정 센서 사용)
3. Substrate Heating (Max 500℃)
4. E-Gun assembly & Thermal Source
5. 3 shutter 사용
6. Oil Mist
Evaporation source
Au Cr, Ti, Ni,Al, Cu, Fe Base pressure :2 x 10E-6
Electron gun assembly : 2ea (6 pochet 15cc crucible)
Deposition rate : 0.01nm~ 3nm
Evaporation source
Au Cr, Ti, Ni,Al, Cu, Fe Base pressure :2 x 10E-6
Electron gun assembly : 2ea (6 pochet 15cc crucible)
Deposition rate : 0.01nm~ 3nm
활용분야
금속 박막 증착
1. Substrate Assembly : 6 이상의 Substrate -Rotation & revolution : RPM 0.1~20 -Throughput : 3개의 3 웨이퍼 사용
2. Thickness Sensor(두께 측정 센서 사용) 3. Substrate Heating (Max 500℃) 4. E-Gun assembly & Thermal Source 5. 3 shutter 사용 6. Oil Mist
Evaporation source