STS
Multiplex ASE
9년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 식각장비
2005-07-31
405,780,444원
고정형
건별
100,000원
RF 전류에 의해 Coil에 유기되는 전계를 이용하여 플라즈마를 발생하여 고밀도의 플라즈마 가능,
Etch Guarantee 범위 : 500Å~2um
Carosel system 채용으로 1batch에 3wafer 일괄공정 가능
Poly-Si 박막을 전용으로 식각한다. 공정 전 Metal이 드러나 있거나 공정 후 Metal이 드러나게 되는 경우 투입 불가함.
Gas Cl2 - 50sccmO2 - 20sccm
HBr - 50sccm
SF6 - 100sccm
Ar - 50sccm