AMK
Applied P5000 Mark II
9년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 식각장비
2004-09-22
800,000,000원
기관의뢰 직접사용
고정형
건별
100,000원
본 장비는 MERIE Plasma source를 이용하여 각종 박막을 식각할 수 있으며, 여러 개의 공정 chamber를 설치하여 박막의 증착 및 식각을 행할 수 있다. Oxide와 Nitride 박막 etching
SiO/SiN, Al Etch chamber 및 SiO2 CVD chamber로 구성되어 있으며, Plasma source 를 이용하여 SiO2 / SiN / Al 박막을 선택적으로 식각할수 있다.