뉴영엠테크
RTA200H-SVP1
10년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2004-06-07
184,500,000원
기관의뢰 직접사용
고정형
건별
90,000원
Si Wafer를 급속한 열처리로 RTA(Rapid Thermal Annealing), RTO (Rapid Thermal Oxidation), RTN(Rapid Thermal Nitridation) 공정을 할 수 있으며, Vacuum process가능.
Si Wafer를 급속한 열처리로 RTA(Rapid Thermal Annealing), RTO (Rapid Thermal Oxidation), RTN(Rapid Thermal Nitridation) 공정을 할 수 있으며, Vacuum process가능. 10sec 내에 1000도 까지 급속 heating, anneal, thin oxidation 가능