HITACHI
LD-5011iA
10년
주장비
교육
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비
2005-05-31
81,000,000원
고정형
기타
0원
*Application
정렬 노광기(Aligner)의 일종으로 wafer 1매에 몇 개의 Chip 단위로 전후좌우로 이동하면서 단위 Chip마다 정렬및 노광을 실시하는 장비
wafer 1매를 한 번에 정렬 노광하는 장비보다 정교한 현상화 가능
*Substrate : 6inch Si wafer 전용
* PR slope:80도
* Wavelength: = 365nm only
* Magnification: 1.5배 축소노광
* Wafer Thickness : 500nm 700um
* 기판크기 : 6inch Wafer
* 분해능 : 1.3um Pitch(Line 0.5um+ Space 0.8um)
* Light Source : Mercury Lamp 600W
* 조도 :150Lux 이상
* 적상노광량 : 400±5mj/㎠
* HgV 25V
* HgI 50A
* 4 Casset Loader
* 9*9 shot
* LOCOS Photo 0.085 sec
* FG Photo 0.085 sec
* CONT Photo 0.65 sec