아텍시스템
APS-SP-431201
12년
주장비
교육
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2004-02-23
137,500,000원
고정형
건별
60,000원
진공의 챔버에 Ar gas를 주입하고 일정한 압력을 유진한 상태에서 고전압으로 플라즈마를 발생시키면 Ar의 고 에너지의 입자를 원하는 박막과 동질인 물질로 이루어진 기판에 충돌시켜 그곳으로부터 원자와 분자가 떨어져 나와 기판에 박막을 만드는 방법
Wafer Size 2~4", Magnet Nd-Fe-B / Process Pressure 1X10-6 6torr 3 Target System(One RF Power , Two DC Power)