에이엠에스-신
3년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 열유체장비 > 달리 분류되지 않는 열유체장비
2004-12-29
200,570,000원
고정형
건별
159,000원
본 장비의 경우 한 개의 이온빔은 증착하고자 하는 재료인 target에 high energy를 가지고 스퍼터 시켜서 기판에 증착되게 하고 다른 또 하나의 이온빔은 기판에 스퍼터 된 target 원자의 증착과 동시에 low energy 이온빔을 조사해 주면 조사되는 에너지의 보조를 받게 되므로 증착 층의 물성을 다양하게 조절할 수 있게 된다. 보조이온빔을 이용하여 증착하기 전에는 기판의 cleaning을 하여 줄 수 있고 증착되는 동안에는 증착물질 위에 적절한 에너지를 가하여 증착 층의 물성을 향상시켜 줄 수 있을 뿐만 아니라 보조이온빔에 사용하는 가스를 반응가스로 사용할 시에는 증착 증의 화학적 조성까지도 조절 할 수 있게 된다.