oxford
Plasmalab 80+
주장비
교육
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2003-09-01
173,626,000원
고정형
시간별
11,820,000원
* Application : Nitride/Oxide 증착
* Wafer manual loading system
* N2 Plasma에 의한 초기 세척
* CF4 Plasma에 의한 chamber cleaning
* 공정명
Nitride, SiO2, SiON, α-Si deposition
* 공통사항
RF generator : LF(50KHz~460KHz),
Hf(13.56MHz)
Max 500W
Dual frequency 증착 : Stress control(Si3N4)
Substrate temperature : Max 400℃
Base pressure : Max 1mtorr