karl suss
MA6
10년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2002-12-10
368,641,180원
직접사용
고정형
시간별
153,600원
소자패턴 형성을 위한 Mask 정렬 및 노광 장치로 현미경, 모니터, lcd 디스플레이, 스테이지, CIC 파워서플라이로 구성되어있다. 5배 10배 20배의 대물렌즈 및 10배의 접안렌즈로 구성되어있음
장비개요적용가능 기판크기 : 10mmx10mm 조각~4인치 Wafer사용가능 마스크 크기 : 4인치×4인치, 5인치×5인치, 6인치×6인치노출광원 : Hg-Lamp 500W, 자외선 (UV) 파장대 : 365~405㎚노광형태 : Proximity, Soft/Hard contact, Soft Vacuum contact, Vacuum contact노광간격 : 1~100㎛, 간격 조절 해상도 : 2.5㎛노광시간 : 0.1~999/초, 0.1초 간격분 해 능 - Proximity in 20㎛ gap : 3㎛ - Soft / Hard contact : 2㎛ - Vacuum contact : 0.6~0.8㎛정렬(Alignment) 방법 및 정확도 - 윗면정렬 (Top Side Alignment) : 0.5㎛ ;- 뒷면정렬 (Back side Alignment) : 1㎛ 윗면 정렬 배율 : 600배 이상, 뒷면 정렬 배율 : 91배, 310배Wedge Error Compensation 가능