HANVAC
HVEB-220
9년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2002-05-07
286,000,000원
직접사용
고정형
시간별
119,167원
장비용도
: 전극 형성을 위한 금속 박막 증착용 장치로 메인챔버, 크라이요펌프, 오일로터리펌프, 이온게이지로 구성되어있음
고진공(2x10E-7torr)에서 공정을 진행함.(Pd, Zn, Au)
적용가능 기판크기 : 2인치, 4인치, 6인치 ;증착 금속 종류 : Pd, Zn, Au (타 금속류는 별도 Crucible로 가능) ;Chamber 진공 - 기본진공도 : 5×10-7torr 이하 - 터보 펌프, 로터리 펌프;박막 두께 모니터 : Quartz crystal;Source Power supply : 10kW;기판 온도 : 70℃ 이하Purging 시스템 : N2 gas;기판 회전 시스템