엘립소테크놀러지
Elli-SE
4년
주장비
분석
광학·전자 영상장비 > 광파발생/측정장비 > 달리 분류되지 않는 광파발생/측정장비
2011-08-24
79,760,000원
고정형
원
2011년 한국세라믹기술원 출연 원예산 구매장비입니다. - 장비용도 (특성) Si Wafer, Glass, PET Film등의 물질위에 코팅된 다양한 물질들 (예, SiO2, Al2O3, Si3N4, Alq3, ZnO, GaN, TiO2, Poly-Si)등의 두께(d), 굴절률(n), 흡수계수(k)를 파장과 대응하여 측정 분석할 수 있으며, 두께정밀도는 반복정도 기준으로 +/-0.3Aomstron(시료종류에 따라 다름)을 구현한다. 12"9300mm) Size의 Wafer를 자동으로 미리 계획한 측정횟수와 포인트를 순서대로 측정이 가능하며, 반복 측정이 가능하다. 측정 결과는 일반적인 실험 리포트화일(*.rpt)로도 저장가능하며, 반복측정된 Data는 *.txt, *.CVS형태로 저장이 가능하다. 응용분야는 Semiconductor, Display, Dielectrics, Polymer, Chemistry, Solarcell분야로 거의 모든 박막의 분석에 대응가능하다.
- 성능 (사용방법) 시료를 시료대에 장착하고, 레이져 오토콜리메이터를 켜서 시료의 Align상태를 확인하고 시료대 밑의 Tilting장치를 이용하여 Align을 맞춘다. 시료의 높이를 조절하는 마이크로메터 헤드를 조정하여 시료의 최적 Align을 맞춘다. S/W화면상의 측정 버튼을 클릭하여 측정을 하고, 시료의 물성에 맞는 분석 모델을 수립하여 Raw Data와 모델을 Fitting하여 분석치를 획득한다.