열.환경 차폐성 마이크로/나노 복합 구조 세라믹코팅기술(2차)

EBPVD용 챔버는 고진공하에서 고순도의 용융점이 높은 금속 및 세라믹류를 최대 1000KW의 고출력 전자빔을 이용하여 용융 후 증착을 하기 위한 장비의 챔버이다.
EBPVD 장비는 고진공에서 공정이 진행되므로 본 챔버는 고진공을 유지할 수 있도록 재료 및 구조가 설계되어 있다.
100KW의 고출력 전자빔을 사용하는 장비로 공정 중 발생하는 방사선 및 2차 전자의 차단 및 제거가 가능 구조로 설계 되어 있다.
챔버를 이중구조로 하여 공정중 발생하는 복사 및 전도에 의한 열을 차단하여 배출할 수 있다.
100KW의 고출력 전자총을 공정시 반사되어 나오는 이온으로부터 보호할 수 있는 구조로 설계되어 있다.