알파플러스㈜
Magnetron Sputtering System
10년
주장비
생산
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2009-09-09
135,573,600원
고정형
건별
74,000원
플라즈마 상태의 높은 에너지를 가진 이온입자를 증착하고자하는 물질과 충돌시킴으로써 시료의 표면에 박막을 형성
*Sputter source: 4inch 3ea*Power supply: RF:600W(2EA)/DC:2KW(1EA)*Substrate heating temp. : ~800℃*Source gas : Ar, O2, N2*Thickness uniformity: ≤ ± 3%