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- Graded multilayer thin film ion-beam sputter
- Graded 다층박막 이온빔 증착장비
- i-Tube No. 1206-C-0238
- NTIS No NFEC-2013-01-174595
-
설치기관
스마트융합기술센터
((재)전북테크노파크)
- 주소 전라북도 익산시 함열읍 익산대로78길 13-6,(다송리)
- 담당자 권영만 (T. 063-720-3711 )
- 매뉴얼
-
온라인* 본 장비는 온라인 예약이 불가하오니 장비사용 예약과 관련해서는
예약가능여부
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장비정보
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제작사
대기하이텍
-
모델 명
개발장비
내용연수9년
-
구분
주장비
용도분석
-
표준 분류
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
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취득일
2012-06-29
취득금액243,934,280원
- 인증정보
- 기능
- 장비 상세설명
이용안내
-
사용형태
기관의뢰
설치형태고정형
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사용료 형태
시간별
장비 사용료38,000원
장비설명
Ion Beam sputtering method를 적용한 thin film deposition system, 나노 스케일의 다층 또는 단일 박막 증착, 마스크를 사용한 Graded multilayer 증착 장비
장비 구성 및 성능
-Deposition substrate size(mm) : 100×100 -Substrate material : Glass, Silicon wafer -Substrate thickness(mm) : 0.5~1 -Target material : W, C, B₄C -Thin film thickness(nm) : 0.1~10(tolerance : ± 0.001)
서울특별시 강남구 테헤란로 305 한국기술센터 2~7, 14층, 16~17층, 21층
TEL : 02-6009-3000 / i-Tube 대표문의: 1811-9126
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