1. 스핀(회전, Spin) 에칭 유니트
1) 최대 회전 수 : 3000 RPM
2) Table 평탄도 10um 이내

2. 에칭액 공급 유니트
1) Drain부로 약액 폐기 가능
2) 온도 및 저레벨 감지 센서 내장
3) 밴드히터로 약액 가열

3. 노즐 분사 유니트
1) Stepping Motor 사용으로 Swing시의 속도 및 범위 설정 가능
2) Nozzle 높이 조절 가능(Stroke 20mm)
3) 투시창 설치로 모터 동작 상태 확인 가능
4) Wafer 후면 테두리부의 잔류 약액 린스를 위한 Nozzle 구비