씨엔디플러스
DAVID2010
9년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비
2011-01-10
262,286,000원
고정형
기타
8,000,010,000원
Full auto 장비 - Photoressit coating & Develop Expose 공정은 개별 공정 진행. 1.HMDS: 110도, Hot Plate: 95도 and 110도 온도에서 공정 진행 2.Photoresist 사용 종류: 1) Thin: GXR601 - 1um ~ 1.4um 3.Develop: PR 에 적합한 Developer 사용 ( AZ400K and AZ300MIF ) 4. PR coating uniformity: thin PR - 0.5% 이하, Thick PR - 5%이하 5. 25매 동시 공정 가능 하며, coating 공정 시 develop 공정 동시 멀티 진행 가능
Full auto 장비 - Photoressit coating & Develop
Expose 공정은 개별 공정 진행.
1.HMDS: 110도, Hot Plate: 95도 and 110도 온도에서 공정 진행
2.Photoresist 사용 종류: 1) Thin: GXR601 - 1um ~ 1.4um
3.Develop: PR 에 적합한 Developer 사용 ( AZ400K and AZ300MIF )
4. PR coating uniformity: thin PR - 0.5% 이하, Thick PR - 5%이하
5. 25매 동시 공정 가능 하며, coating 공정 시 develop 공정 동시 멀티 진행 가능