A.특징: 고온 열프라즈마의 용융 원리를 이용하여 나노복합물질의 합성과 코팅을 동시에 할 수 있는 장치이며, 본 장치는 KIER 이 독자적으로 설계 개발하였음. . B.구성 및 사양: 가. 공정챔버 (Process chamber) * 기본 진공도(Base pressure): 5 x 10-3Torr. * 공정 진공도(Process pressure) : 1 ~ 1,000 Torr. 1) 재질 : 스텐레스 스틸(SUS304), 표면 전해연마처리(Electro polishing).외관 진공 기밀부 냉각라인(Cooling line) 2) 구조 : 몸체(Main body)-사각형, 개폐도어 : 2면 3) 기밀재(Sealant) : 내열특성이 우수한 VITON계 O-RING사용과 가스켓 4) Plasma source : 수냉형 토치 방식, 유량 : 40 l/m 이상 처리 가능해야함 5) Source와 시편홀더와의 거리 조절 능력 : 200mm (자동 조정 가능). 6) 분말 회수 장치 : 수냉형 Cold Trap / 2단 분리가능 / Rail형 이송장치, 챔버 내 작업용 Gloove 장착 7) 플라즈마 전원장치 : 직류전원장치(100V 300A, 30kW) 8) 시창 및 온도측정계 : 3 단계로 구성 (반응기, 히타, 히타제어) 9) 분말공급장치 : 유량제어형 / 자동 10) Plasma source 챔버 : 스텐레스스틸 재질로 2중 냉각벽 구조. 11) 진공게이지 : * 저진공게이지 (피라니 게이지), 측정범위: 대기압-1x10E-4 Torr. * 공정용 진공게이지(캐패시턴스 마노메터), 측정범위: 1000 Torr. * 퍼지시 대기압 측정용 게이지: 대기압스위치(ATM switch) 12) 진공펌프어셈블리 : 저진공펌프 (드라이펌프), 배기용량: 120 M3/H + 액체질소 Cold Trap + Oil Mist Trap 13) 진공밸브 : 주 배기구 (NW40) 14) 자동공정압력조절밸브(Auto Pressure Control Valve) : DOWN STREAM - BRAND : MKS OR EQUIVALENT 15) 가스유량조절기(MFC: Mass Flow Controller): Three position 공급 방식의 가스라인 및 밸브 구성 16) 히터(Heater): 최고온도 섭씨700도까지 승온 가능, 시편처리 : MAX 4 INCH, T.C WAFER (5 POINT) 및 측정계 포함 17) 시편냉각장치 : 히터 장착포트 호환형, COOLING BLOCK : 무산소동 18) 밴트댐퍼장치(Vent damper module): Vent시 부유 오염입자 최소화. 나.전기제어계(Electrical controller) 1) 장비소요전력량 : 3상 220VAC, 50A. 2) 제어방식: 프로그래머블 로직 콘트롤(PLC:Programmable Logic Controller)를 기초로 한 LAB-VIEW SOFTWARE PC 제어. 3) 운용제어계: PC, 자동 공정 파라미터 설정 기능. 장비상태 표시 기능. Data logging 기능.Data 저장 기능 4) 제어반 규격:19인치 Standard Control Rack 5) 각종 컨트롤러. - 온도컨트롤러 (Temperature controller). - 모터컨트롤러 및 드라이버(Motor controller & Driver). - 열전대 (Thermo-couple), K-형. - 자동압력밸브 컨트롤러(Auto Pressure controller) - 공압 컨트롤러(Pneumatic controller)-Solenoid valve. - VACUUM GAUGE CONTROLLER 다.부대장치(Accessories) 1) 진공배관계 (Vacuum pumping line)-스텐레스스틸(SUS304). 2) 가스공급계 (Gas supply module)- 각종 가스라인 및 연결피팅 C.성능: 수 내지 수백 나노미터 크기의 고체입자의 복합화 합성 및 수 마이크미터 이내의 두께로 박막코팅이 가능. D.용도: 각종 나노분말의 복합입자 기상 합성 및 박막코팅을 위한 용도로 사용.