Enwave Optronics
EZRaman-M-785-B
5년
주장비
분석
기타 > >
2010-03-08
38,434,230원
고정형
원
구성 및 성능 1. 라만 메인시스템: 소스 785nm 레이져, 파워 300―400mW 2. 시스템 소프트 웨어 3. 시스템 부속품 사용예 분광기 소스 전원 연결하고 프로그램 실행한다. Blank 스캔한 후 시료 장착하고 스캔한다. 특기사항 다양한 응용이 가능하며 특수한 엔지니어링을 위해 고안되었고 액상과 고상 샘플의 물질 확인 및 테스팅이 용이함. 한글 키워드 분광기 영문키워드 spetrometer 장비의 원리 및 특징 고분자 재료의 분포 상태해석, monomer 및 이성체질의 분석, 결정성, 배향성, 다층구조, 중합 반응의 모니터링, 복합 재료의 해석, 순도 및 결함의 연구, 산화, 에이징 등을 분석할 수 있는 분석기
구성 및 성능 1. 라만 메인시스템: 소스 785nm 레이져, 파워 300―400mW 2. 시스템 소프트 웨어 3. 시스템 부속품 사용예 분광기 소스 전원 연결하고 프로그램 실행한다. Blank 스캔한 후 시료 장착하고 스캔한다. 특기사항 다양한 응용이 가능하며 특수한 엔지니어링을 위해 고안되었고 액상과 고상 샘플의 물질 확인 및 테스팅이 용이함. 한글 키워드 분광기 영문키워드 spetrometer 장비의 원리 및 특징 고분자 재료의 분포 상태해석, monomer 및 이성체질의 분석, 결정성, 배향성, 다층구조, 중합 반응의 모니터링, 복합 재료의 해석, 순도 및 결함의 연구, 산화, 에이징 등을 분석할 수 있는 분석기