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- i-Tube No. 1005-Z-0052
- NTIS No NFEC-2011-01-139211
-
설치기관
나노융합실용화센터
((재)대구테크노파크나노융합실용화센터)
- 주소 대구광역시 달서구 성서공단로 46-17,대구테크노파크 나노융합실용화센터(대천동)
- 담당자 이재근 (T. 053-602-1780 )
- 매뉴얼
-
온라인* 본 장비는 온라인 예약이 불가하오니 장비사용 예약과 관련해서는
예약가능여부
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장비정보
-
제작사
코썸사이언스
-
모델 명
KOS-1000L
내용연수8년
-
구분
주장비
용도생산
-
표준 분류
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 프린팅장비
-
취득일
2010-05-27
취득금액485,374,510원
- 인증정보
- 기능
- 장비 상세설명
이용안내
-
사용형태
기관의뢰
설치형태고정형
-
사용료 형태
시간별
장비 사용료120,000원
장비설명
특징레이저 패터링 시스템은 극초단펄스(pico-second) 레이저소스(1064mm, 532mm)의 2가지 파장을 선택적으로 사용할 수 있어 일반 유・무기소재 절개(Ablation)뿐만 아니라 투명필름 상의 열손상 없는 TCO 패턴형성, a-Si/CIGS/CdTe 등의 박막태양전지 모듈 제작을 위한 다층연속 패턴공정, 전자 및 바이오칩 전극소재 패터닝, 소재 국부열처리 등에 사용하는 장비임.시스템 1. System dimension : ≤ 2500mm x 2000mm x 2500mm 2. Substrate size : ≥ 300mm x 300mm 3. Weight : ＜ 2500kg 4. Sliding type door & Acryl window cover레이저소스 1. Picosecond Industrial Laser(for 1064nm, 532nm) 2. Fiber-based technology 3. Integrated AOM(Accoustic Optical modulation) for pulse selection and control 4. Menu-driven : GUI or RS-232 interface 5. Wavelength : 1064nm, 532nm 6. Repetition range(operational) : 50kH~5MHz 이내, Repetition rate(optimized) : 200~500kHz 7. Pulse width : 10~15ps 8. Pulse-to-pulse stability(Rms 1σ) : < 2%@1064nm & 532nm 9. Average power stability(over 8 hours) : < 3% 10. Average output power : ≥ 18W@1064nm, ≥ 8W@532nm 11. Polarization ratio : > 100:1 horizontal 12. Spatial mode : TEM00(M2<1.3) 13. Beam diameter : 1mm±25%@1064nm, 0.7mm±25%@532nm 14. Beam circularity : > 85% 15. Operating voltage : 100 to 240 VAC 16. Cooling requirements(laser head) : Water recirculation 17. Cooling requirements(power supply) : Air cooling type 18. Operational ambient temperature : 15~30℃
장비 구성 및 성능
특징레이저 패터링 시스템은 극초단펄스(pico-second) 레이저소스(1064mm, 532mm)의 2가지 파장을 선택적으로 사용할 수 있어 일반 유・무기소재 절개(Ablation)뿐만 아니라 투명필름 상의 열손상 없는 TCO 패턴형성, a-Si/CIGS/CdTe 등의 박막태양전지 모듈 제작을 위한 다층연속 패턴공정, 전자 및 바이오칩 전극소재 패터닝, 소재 국부열처리 등에 사용하는 장비임.시스템 1. System dimension : ≤ 2500mm x 2000mm x 2500mm 2. Substrate size : ≥ 300mm x 300mm 3. Weight : ＜ 2500kg 4. Sliding type door & Acryl window cover레이저소스 1. Picosecond Industrial Laser(for 1064nm, 532nm) 2. Fiber-based technology 3. Integrated AOM(Accoustic Optical modulation) for pulse selection and control 4. Menu-driven : GUI or RS-232 interface 5. Wavelength : 1064nm, 532nm 6. Repetition range(operational) : 50kH~5MHz 이내, Repetition rate(optimized) : 200~500kHz 7. Pulse width : 10~15ps 8. Pulse-to-pulse stability(Rms 1σ) : < 2%@1064nm & 532nm 9. Average power stability(over 8 hours) : < 3% 10. Average output power : ≥ 18W@1064nm, ≥ 8W@532nm 11. Polarization ratio : > 100:1 horizontal 12. Spatial mode : TEM00(M2<1.3) 13. Beam diameter : 1mm±25%@1064nm, 0.7mm±25%@532nm 14. Beam circularity : > 85% 15. Operating voltage : 100 to 240 VAC 16. Cooling requirements(laser head) : Water recirculation 17. Cooling requirements(power supply) : Air cooling type 18. Operational ambient temperature : 15~30℃
서울특별시 강남구 테헤란로 305 한국기술센터 2~7, 14층, 16~17층, 21층
TEL : 02-6009-3000 / i-Tube 대표문의: 1811-9126
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