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- 플라스마 촉진화학 증착 장비
- i-Tube No. 1003-Z-0028
- NTIS No NFEC-2010-07-080620
- 설치기관 고려대학교산학협력단
- 주소 서울특별시 성북구 안암로 145,고려대학교(안암동5가)
- 담당자 강윤묵 (T. 02-3290-5015 )
- 매뉴얼
-
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장비정보
-
제작사
테스
-
모델 명
PECVD
내용연수3년
-
구분
주장비
용도시험
-
표준 분류
기타 > >
-
취득일
2010-03-29
취득금액194,000,000원
- 인증정보
- 기능
- 장비 상세설명
이용안내
-
사용형태설치형태
고정형
-
사용료 형태장비 사용료
원
장비설명
특징 플라즈마상태에서 Sinx, SiOx등의 박막을 증착 구성및성능 메인챔버, 터보펌브, 로드락챔버, 컨트롤박스 활용분야 반사방지막 증착 (SiNx), 실리콘 산화막 (SiOx) 증 착
장비 구성 및 성능
6 inch single wafer.Dry pump, Heat Exchanger,Gas cabinet (SiH4, NH3, NF3, H2).MFC(SiH4, NH3,N2,N2O,NF3,H2,Ar) Heat&Wet scrubberLoad lock & process chamber
서울특별시 강남구 테헤란로 305 한국기술센터 2~7, 14층, 16~17층, 21층
TEL : 02-6009-3000 / i-Tube 대표문의: 1811-9126
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