에이엠에스
AEE-1000CO-DUAL
2010년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2010-02-24
86,020,000원
고정형
원
이온빔 장치는 양성자,헬륨, 질소, 아르곤, 제논 등의 이온을 대량 발생시킨 뒤 수십 keV 이상으로 가속해서 물질 내에 주입하거나 조사하는 장치로서 유연소재의 불순물을 제거, 울퉁불퉁한표면을 매끄럽고 고르게 처리 가능함.
이온빔 장치는 양성자,헬륨, 질소, 아르곤, 제논 등의 이온을 대량 발생시킨 뒤 수십 keV 이상으로 가속해서 물질 내에 주입하거나 조사하는 장치로서 유연소재의 불순물을 제거, 울퉁불퉁한표면을 매끄럽고 고르게 처리 가능함.