아텍정밀
모델명 없음
10년
부대장비(부가장치) (주장비:산화시스템)
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2009-11-05
49,500,000원
고정형
시간별
999,999원
1. 용도
o Nano 구조의 복합막을 증착하기 위한 모듈
- Magnetic enhanced ion gun을 이용한 high energy ion beam 생성
- High density arc gun을 이용한 high density film 제작
- Dual source를 이용한 hybrid film 제작
2. 규격
① 주 장치
Magnetic enhanced ion gun (Discharge voltage: 250V~3000V, Beam energy: 150eV ~ 1500eV, Discharge current: <2A)
- Max power:6kW
- Operating Pressure: 0.7~3 mTorr
- Size : 250(h) x 108(w)
- 코팅균일도: 250mm 이내 ± 3%
- 사용가능한 가스: Ar, N2, O2, C2H2, CH4, SiH4, H2, etc
- 전원: 출력 DC 6KW, 3000V, 6A (USA, AE)
② 악세사리
High density Arc gun (max current: 200A, 사용개스: 상동)
- Operating Pressure: ≤0.1 mTorr
- 코팅균일도: Φ90mm 범위 내에서 ± 3%
- 증착율: 50~100nm/min
- 전원 : 220V 12A 3p 입력/ 출력 DC 5KW , 50V, 200A