우성하이백
400x400, DC/RF dual sputter, HF bias, 처리면적 150x30
10년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 스퍼터
2009-09-09
79,000,000원
고정형
기타
0원
- 다성분계 산화물 고팅용 Dual source Type 스터터링 장치
- 고주파 펄스형 Bias 장치를 통한 성분 치밀막 형성
- 2-Fold 시스템을 통한 균일막 형성
- 150mm급 원통형 샘플 전면코팅
- Chamber : Φ400*400, Door type, SUS304
- Pump : TMP(800L/sec), Rotary(1,000L/min)
- Source : Magnetron sputter 1(2) set