맞춤추천
공동활용장비
- 장비찾기
- 공동활용장비
- Diffusion Furnace
- 확산로
- i-Tube No. 0912-Z-0219
- NTIS No NFEC-2010-01-079860
- 설치기관 한국생산기술연구원
- 주소 광주광역시 북구 첨단과기로208번길 6,(오룡동)
- 담당자 김영백 (T. 062-600-6520 )
- 매뉴얼
-
온라인* 본 장비는 온라인 예약이 불가하오니 장비사용 예약과 관련해서는
예약가능여부
장비 보유기관에 직접 문의 주시기 바랍니다. (장비 예약은 Zeus 시스템에서 회원가입후 예약가능)
장비정보
-
제작사
성진세미텍
-
모델 명
SJF-2000T2
내용연수5년
-
구분
주장비
용도기타
-
표준 분류
기타 > >
-
취득일
2009-12-11
취득금액371,820,000원
- 인증정보
- 기능
- 장비 상세설명
이용안내
-
사용형태설치형태
고정형
-
사용료 형태장비 사용료
77,463원
장비설명
사양- Wet Oxidation & Anneal for Semiconductor Wafer : 4인치~8인치 Wafer Si & glass- Nitride & Poly Silicon for Semiconductor Wafer : 4인치~8인치 Wafer Si & glass특징- 저압 (0.2~2.0)Torr의 반응용기 내에 열에너지에 의한 화학반응을 이용하여 박막 증착- 증착 가능 온도 : 300~1,200도
장비 구성 및 성능
1) 개요 - 저압 (0.2˜2.0)Torr의 반응용기 내에 열에너지에 의한 화학반응을 이용하여 박막 증착 - 증착 가능 온도 범위(300˜1,200℃) - 4"˜8" Wafer Si & glass 35ea 이상 공정가능
서울특별시 강남구 테헤란로 305 한국기술센터 2~7, 14층, 16~17층, 21층
TEL : 02-6009-3000 / i-Tube 대표문의: 1811-9126
Copyrightⓒ 2020 KIAT All rights reserved.
