(주)코썸사이언스
20ps
5년
주장비
생산
기타 > >
2009-10-30
556,620,000원
고정형
115,963원
레이저 패터닝 장비는 솔라셀중 CIGS/실리콘 박막의 패턴형성 및 디스플레이, 반도체 소자의 미세패턴형성등에 사용된다. 그중에서도 박막형 화합물 태양전지에서 1차로 Mo층을 레이저로 패터닝을 하며 2차(CIS+CdD) 및 3차(ZnO) 패터닝을 하는 것이다. 레이저 가공의 경우 다른 층에 데미지를 주지 않고 미세패턴을 형성할 수 있기 때문에 솔라셀의 효율향상을 극대화 할 수 있다.
CIGS 박막의 패턴형성 및 디스플레이, 반도체 소자의 미세패턴형성, wafer cell scribing 등에 광범위하게 사용된다. 레이저 가공의 경우 다른 층에 데미지를 주지 않고 미세패턴을 형성할 수 있으며 패턴의 사이즈를 최소화할 수 있기 때문에 솔라셀의 효율향상을 극대화 할 수 있다.