1. 2011년 수리에 따른 자산번호와 금액 발생
- 자산번호: 14012666, 금액: 83,600,000원

2. 특징

플라즈마가 형성된 진공 Chamber 내에 반응기체(Cl2)를 인가하면 가속된 Ar이온과 Cl2 가스가 금속
박막의 표면 원자와 반응하여 금속박막을 식각함.


3. 구성및성능

Aluminum Etch Rate ＞ 6000Å/min,
Etch Rate Uniformity(1sigma) ＜ 3%, Al to PR Selectivity ＞ 2.5,
Al to Oxide Selectivity ＞ 10,
Etch Profile ＞ 87degree＞＜

4. 활용분야

반도체 제조공정 중 배선용 Metal 박막을 건식식각공정에 사용