TEL
Alpha-808SD
10년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2009-01-19
44,000,000원
고정형
건별
450,000원
고온 열처리 퍼니스의 특징 외부 열원에 의해 고온으로 유지되는 Tube 내에 Wafer를 Loading하여 분위기에 따라 Dopant의 확 산 열산화막성장 공정을 진행하는 장비이다.
구성및성능
Temp. Control Range : 600-1250, Temp. Ramp Up(Down) Rate : >10.0 (3.0) ℃/min, Oxide Thickness Uniformity(1sigma) : < 2%, Temp. Uniformity :±0.5℃, 8inch 장비.