유시스텍
SiLLA-Hr-Co 4
12년
주장비
기타
기계가공·시험장비 > 성형/가공장비 > 달리 분류되지 않는 성형/가공장비
2011-09-30
162,800,000원
고정형
건별
104,500원
스퍼터링 증착방식을 이용하여 박막을 형성 할 수 있는 장비이다.
박막태양전지의 메인 흡수층을 제작하는데 사용되며 타겟에 따라 전극 및 투명전극까지 증착할 수 있다.
4개의 스퍼터 건을 이용하여 동시에 여러물질을 증착시키는 장비이다.
Film thickness uniformity : ≤ ±5% on OD 100x100mm substrateFilm composition uniformity : ≤ ±5%Film resistivity : ≤ ohm cmRotation speed : 5~30 RPMDC power supply : 1kW - 3set(Noise Filter)Heating Temperature : Max. 700℃ ± 1%Sample Size : 100mm X 100mmVacuum : 5x10-7TorrRF Power Supply : 300W - 1set, 600W - 1set, (13.56 MHz)Sputtering gun : 4 sputter GunSputtering source : Cu-Ga, In, Mo