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- i-Tube No. 0904-C-0036
- NTIS No NFEC-2011-01-138136
- 설치기관 (재)서울테크노파크
- 주소 서울 노원구 공릉동 172번지 서울테크노파크 604호
- 담당자 윤원호 (T. 02-944-6026 )
- 매뉴얼
-
온라인* 본 장비는 온라인 예약이 불가하오니 장비사용 예약과 관련해서는
예약가능여부
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장비정보
-
제작사
소로나
-
모델 명
SRN-110
내용연수12년
-
구분
주장비
용도생산
-
표준 분류
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
-
취득일
2009-04-27
취득금액554,304,000원
- 인증정보
- 기능
- 장비 상세설명
이용안내
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사용형태설치형태
고정형
-
사용료 형태
기타
장비 사용료70,000원
장비설명
⦁4inch wafer 용 process chamber ⦁6inch, 8inch wafer 용 process chamber - target : Ti, Al, Cr, W, Cu - base pressure : low 10E-8 torr - DC plasma 전용
장비 구성 및 성능
Specification Base pressure 8E-8 Torr PM1 Wafer size up to 8” DC plasma Target Ti, Cu, Al, W, Cr,Sn PM2 Wafer size up to 4” DC & RF plasma Target Co, Ni, ZnO, Zn, Sn Heater temp. Max. 700℃
서울특별시 강남구 테헤란로 305 한국기술센터 2~7, 14층, 16~17층, 21층
TEL : 02-6009-3000 / i-Tube 대표문의: 1811-9126
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