Dual Beam FIB(Focused Ion Beam)장치는 하나의 진공 Chamber에 Ion Optical System (IOS)와 Electron optical system (EOS)를 동시에 장착하여 SEM의 기능과 Focused Ion-Beam의 두가지 기능을 하나의 장비에서 구현이 가능하도록 고안된 장비이다.
EOS는 통상의 전계방출형 주사전자현미경(FE-SEM)과 동일한 Electron Beam Source를 사용하며, IOS는 Ga liquid-Metal ion source(LMIS)를 사용한다. LMIS는 EOS와 같이 시료의 표면에서 2차전자를 방출시켜, Image를 취득하기도 하지만, 높은 가속전압으로 가속시켜 시료의 표면을 milling 하는 역할을 하기도 한다.
이러한 Dual Beam FIB의 구성 및 성능적인 특성 때문에 시편의 두께가 두꺼우면 좋은 Image를 얻기 힘들다는 TEM Image의 관찰특성상, TEM으로 관찰할 시료를 얇게 자르는데 사용 되기도 하며, Gas Injection System을 활용하여 시편의 다양한 가공작업으로의 활용이 가능하다.