wet station 이란 각종 Chemical 을 안전하게 이용할 수 있는 장비입니다.
크게 반응조(reaction bath), 세정조(quick drain and rinse; QDR)로 구성됩니다.
반응조는 사용 chemical 의 종류에 따라 재질이 바뀌며, 그 재질로는 quartz, teflon, stainless steel
316(SUS 316)을 사용하고 그 구성은 공정 wafer 의 종류에 따라 size 가 결정되는 bath 크기와
heating line, drain line 등으로 구성됩니다.
여기서 온도센서와 용량센서는 필수로 들어갑니다.
그리고 세정조는 거의 clean PVC 정도를 사용합니다.
구성은 DI nozzle 과 snug plate 대용량 drain valve 로 구성됩니다.
일반적으로 wet station 또는 반도체 공정에서의 wet 공정에서 사용하는 DI water 는 18MΩ옴의 초순수를 사용합니다

(과제명 : 반도체광원시험생산기술지원사업
과제책임자 : 김왕기
과제수행기관 : 한국광기술원)