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- i-Tube No. 0802-C-0103
- NTIS No NFEC-2008-06-056050
- 설치기관 포항공과대학교산학협력단
- 주소 경상북도 포항시 남구 청암로 77,포항공과대학교(효자동)
- 담당자 김태완 (T. )
- 매뉴얼
-
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장비정보
-
제작사
HIT
-
모델 명
WS-820L
내용연수10년
-
구분
주장비
용도생산
-
표준 분류
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 식각장비
-
취득일
2008-02-21
취득금액136,840,000원
- 인증정보
- 기능
- 장비 상세설명
이용안내
-
사용형태설치형태
고정형
-
사용료 형태
건별
장비 사용료100,000원
장비설명
특징
과산화수소수(H2O2)를 Base로 한 용액 내에서 Wafer와 부착된 오염원들을 모두 음전위를 형 성하게 하여 Wafer로부터 오염원들을 제거한다.
활용분야
Wafer 표면의 유기물, 금속원자, 자연산화막 제거
장비 구성 및 성능
구성및성능
구성 : SPM Bath, APM Bath, DHF Bath, QDR Bath 성능: DHF 식각 Uniformity 5%(1sigma) 이하.
활용분야
Wafer 표면의 유기물, 금속원자, 자연산화막 제거특징
과산화수소수(H2O2)를 Base로 한 용액 내에서 Wafer와 부착된 오염원들을 모두 음전위를 형 성하게 하여 Wafer로부터 오염원들을 제거한다.
구성및성능
구성 : SPM Bath, APM Bath, DHF Bath, QDR Bath 성능: DHF 식각 Uniformity 5%(1sigma) 이하.
서울특별시 강남구 테헤란로 305 한국기술센터 2~7, 14층, 16~17층, 21층
TEL : 02-6009-3000 / i-Tube 대표문의: 1811-9126
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