V-System
나노 임프린트 장비
5년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 프린팅장비
2008-01-10
120,000,000원
기관의뢰
고정형
건별
0원
특정 패턴을 가진 마스크에 UV를 투과시켜 마스크 패턴에 따라 photo-resistor를 결화시키므로써 미세 패턴을 형성하는 photolithography와 패턴을 통하여 Naimprinting에 사용하는 장비.
Stamp Size : Piece~ Max.8" Mask Size
Substrate Size : Piece~ Max.8" Wafer size
Travel in X, Y : ± 5mm stroke from center : Resolution: 0.1um
Travel in theta:± 5° from center : Resolution: 0.0025°
Lamp & Lamp House : Uniformity : ± 4~6% @ 150mm
Resolution : 1um~2um(NUV mode)
Intensity : 500W(20~25mW/㎠)