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ILPS400
9년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 식각장비
2008-10-02
46,708,200원
고정형
시간별
20,000원
저온 저압의 RF 플라즈마를 이용하여 금속, 플라스틱, 유리 등의 탈지, 세정, 활성화를 하는 장비이다. power와 어떤 가스를 사용하느냐에 따라서 세정, 칭수성처리, 소수성처리를 할 수 있다. plasma형성 가스로는 아르곤가스가 사용되는데, 단 소수성처리를 할 시에는 헬륨가스가 사용이 된다.
대기압 플라즈마 방식의 Plasma 발생 길이는 350mm 이상플라즈마 발생방식은 direct 글로우 방식Gas Control MFC : Digital 방식.상온 상압에서 구동 가능RF Power Frequency : 13.56 MHz RF Power : 600WPlasma 발생 장치 : 자연점화식Plasma 전극을 고정 시 Sample stage에서 4~5mm의 간격을 유지. 사용가스 : Ar, He, O2, N2, 기타 추가가능.