SUSS Microtec Lithcgraphy GMBH
MA8-L
10년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비
2008-06-18
481,238,820원
고정형
기타
1,000,030,000원
고해상도의 리소공정을 위한 장비로서 최소 1㎛이상의 패턴에 대해 Double side align이 가능하며, 4“, 6”, 8“ wafer size 가능하다.
◆다양한 contact mode 지원 Vacuum, low vacuum, Hard contact, soft contact, proximity◆Mask-wafer alignment stage x: -10/3 ~ +10/3 , y: -5/3 ~ +5/3 , Θ: -5°/3° ~ +5°/3°◆Topside microscope x: -50 ~ +50 , y: -99.9 ~ +20 , Θ: -4° ~ +4°◆Bottomside Microscope x: -92.5 ~ +32.5 , y: -20 ~ +50 ◆Objective separation : X: 62~185◆Light sensor: 365nm, 405nm