Emitter tip에서 나오는 전자들을 Electrostatic lens에서 집속하고 Electro-static deflector를 이용하여 원하는 위치에 Beam을 Writing하여 Pattern을 형성한다. JBX-6300FS 장비는 높은 가속전압을 갖는 E-Beam을 이용한 lithography시스템으로 가속전압은 100keV 이며, 높은 가속전압을 이용하기 때문에 Proximity effect를 최소화 하고 미세 Pattern 형성이 가능 하다는 장점을 지니고 있다. 현재는 Direction writing 전용장비로 사용되고 있다.