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- i-Tube No. 0912-Z-0003
- NTIS No NFEC-2010-01-077760
- 설치기관 한국생산기술연구원
- 주소 광주광역시 북구 첨단과기로208번길 6,(오룡동)
- 담당자 김영백 (T. 062-600-6520 )
- 매뉴얼
-
온라인* 본 장비는 온라인 예약이 불가하오니 장비사용 예약과 관련해서는
예약가능여부
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장비정보
-
제작사
㈜나녹스
-
모델 명
Plasmalab System 133
내용연수5년
-
구분
주장비
용도시험
-
표준 분류
기타 > >
-
취득일
2009-12-15
취득금액613,124,910원
- 인증정보
- 기능
- 장비 상세설명
이용안내
-
사용형태설치형태
고정형
-
사용료 형태장비 사용료
127,734원
장비설명
- Material : Si, SiO2 , SiNx- Etch depth : < 5um To > 500um (Through the wafer)- Etch Mask : Photo resist , Dielectric , Metals- Wafer Size : 4“(100mm) , 6"(200mm) , 8"(300mm) , 8" X 8" square- Wafer Type : Single, Bonded
장비 구성 및 성능
- 광소자 및 MEMS sensor 제작시 고종횡비의 구조물을 얻을수 있음 - Fast Etch Rate, High Selectivity, Low Ion Demage의 구현 할수 있음.
서울특별시 강남구 테헤란로 305 한국기술센터 2~7, 14층, 16~17층, 21층
TEL : 02-6009-3000 / i-Tube 대표문의: 1811-9126
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