Photolithography 장비는 크게 Exposure & Mask Aligment System, Spin Coater, Hot Plate로 구성된다. Spin Coater는 기판에 PR을 균일하게 도포시켜 주고, Hot Plate는 기판의 Soft/Hard Bake 공정을 시켜주며, 마지막으로 Exposure & Mask Alignment System는 PR이 코팅된 기판에 노광(exposure)공정을 통해 Mask의 필요한 Pattern을 기판에 형성시켜주는 역할을 한다.