특징 이온빔을 이용하여 증착 및 에칭을 하는 장비이며 이온빔이 두개로 작은 타겟으로 큰 면적의 증착이 가능한 특징을 가짐 구성및성능 - 두 개의 이온빔 소스 - 회전과 기울임 조절이 가능한 스테이지 - 2“와 4” 웨이퍼 모두 가공 가능 - 스퍼터와 에칭이 모두 가능 - 10-7의 고진공 시스템 - 박막 두께 모니터링 디스플레이 - 4개 타겟 동시 사용가능 홀더 활용분야 염료감응 태양전지용 상대전극의 백금 코팅, 마이크로 접촉연소식 수소센서의 백금 히터 형성